Micro-Epsilon 雷射三角測量原理
發射、接收成像與標定後的距離測量
核對日期:2026-10-24
看原始公開資料 →已知入射角、光路長度、介質邊界與溫度的透射裝置。反射/透射可切換的試片工裝與編碼掃描
已知入射角、光路長度、介質邊界與溫度的透射裝置
現有演算法證據:A101–A112只完成解析合成光點與受控幾何驗證;參見laser_spot_benchmark.json
光點提取只能作為觀測前端,三維重建、閉迴路控制、波前或物理量反演等核心能力需單獨開發與驗證。
本場景缺口:需新增Snell/光線追跡和參數可辨識性分析;偏轉不能唯一證明成分或濃度。楔角與折射率需獨立已知量。透明或鏡面材質需專門收發光學,不承諾通用適配
路線級缺口:需新增Snell/光線追跡和參數可辨識性分析;偏轉不能唯一證明成分或濃度
「需新增核心」只描述相對開發量,不構成精確度、節拍、穩定性或交付週期承諾。
使用已知棱鏡或折射率參考介質並控制溫度,檢驗幾何/成分交叉敏感。標準台階、干涉/輪廓量具與材料分組盲測
| 驗收項 | 項目需確認的證據 | 目前狀態 |
|---|---|---|
| 輸入與樣本 | 真實設備原始影格、正常/異常樣本、曝光與光路條件、樣本分組及留出集 | 未提供,待項目輸入 |
| 量值與誤差 | 獨立參考量值、標定記錄、誤差統計口徑及雙方確認閾值 | 未驗證 |
| 異常與邊界 | 漏檢、誤檢、過曝、遮蔽、反光、出視場和通訊異常的預期處理 | 待定義 |
| 系統整合 | 介面、時間同步、部署平台、節拍、日誌、版本和連續運行記錄 | 未集成 |
來源支援測量原理或同類應用;本場景的模組組合、裝置與驗收方法為工程推導,未完成產品驗證
發射、接收成像與標定後的距離測量
核對日期:2026-10-24
看原始公開資料 →主動點三角測量、掃描幾何和誤差傳播
核對日期:2026-10-24
看原始公開資料 →散斑對位置和距離不確定度的影響
核對日期:2026-10-24
看原始公開資料 →楔片透射引起的光束偏轉測量
請說明任務物件、原始圖片或影片、目標指標、裝置平台、介面和樣本情況。
電話:13910119357