Micro-Epsilon 雷射三角測量原理
發射、接收成像與標定後的距離測量
核對日期:2026-10-24
看原始公開資料 →固定雷射發射軸和接收相機基線,目標表面能形成可分離光點。固定基線點雷射接收頭和標定Z平台
固定雷射發射軸和接收相機基線,目標表面能形成可分離光點
現有演算法證據:A101–A112只完成解析合成光點與受控幾何驗證;參見laser_spot_benchmark.json
可重複使用光點偵測前端或時序統計模組,但專案仍需增加幾何標定、時間同步、運動補償或設備系統整合。
本場景缺口:需新增點雷射射線求交或一維非線性距離標定適配;A97僅線性區,A21為雷射平面介面。正式平面度評估核心需另加。實機表面反光與微小量程決定能否採到有效點
路線級缺口:需新增點雷射射線求交或一維非線性距離標定適配;A97僅線性區,A21為雷射平面介面
「部分可重複使用」只描述相對開發量,不構成精確度、節拍、穩定性或交付週期承諾。
使用量塊及位移台覆蓋量程與表麵條件,獨立報告物理誤差、重複性及散斑影響。量塊、顯微高度計及獨立組裝樣件對照
| 驗收項 | 項目需確認的證據 | 目前狀態 |
|---|---|---|
| 輸入與樣本 | 真實設備原始影格、正常/異常樣本、曝光與光路條件、樣本分組及留出集 | 未提供,待項目輸入 |
| 量值與誤差 | 獨立參考量值、標定記錄、誤差統計口徑及雙方確認閾值 | 未驗證 |
| 異常與邊界 | 漏檢、誤檢、過曝、遮蔽、反光、出視場和通訊異常的預期處理 | 待定義 |
| 系統整合 | 介面、時間同步、部署平台、節拍、日誌、版本和連續運行記錄 | 未集成 |
來源支援測量原理或同類應用;本場景的模組組合、裝置與驗收方法為工程推導,未完成產品驗證
發射、接收成像與標定後的距離測量
核對日期:2026-10-24
看原始公開資料 →工業高度、距離和位置測量類別
核對日期:2026-10-24
看原始公開資料 →主動點三角測量、掃描幾何和誤差傳播
核對日期:2026-10-24
看原始公開資料 →夾具支承面的高度一致性檢查
請說明任務物件、原始圖片或影片、目標指標、裝置平台、介面和樣本情況。
電話:13910119357