Plan d'application pour la fluctuation de l'épaisseur de la bande et l'analyse des positions hors tolérance
Cette solution combine les mesures de points/lignes des deux côtés d'un même emplacement avec une référence commune, génère une courbe d'épaisseur ou une distribution latérale et identifie les résultats invalides en raison de la synchronisation, des bords et des matériaux.
Résumé du jugement du projet
Tâches et saisie d'images
La hauteur d'un côté changera avec le balancement du matériau et ne peut pas être directement égale à l'épaisseur ; de fausses fluctuations se produiront également lorsque les deux camps prendront des positions différentes.
Données d'entrée : données de synchronisation bilatérale, coordonnées/ligne de base communes, position d'échantillonnage, température du rack et dalle standard. La première famille de matériaux doit être confirmée séparément.
Traitement et sortie de l'algorithme
Unification des coordonnées à double tête → alignement efficace de la surface → même point/appariement simultané → traitement de la dérive de base et de la température → épaisseur et position hors tolérance.
Résultats de sortie : épaisseur, position, point invalide, état de synchronisation et tendance intertemporelle ; l'épaisseur totale, le revêtement et l'épaisseur multicouche sont définis séparément.
Mise en œuvre et vérification
Développez d'abord un modèle d'épaisseur et des règles d'exception spécifiques au matériau/à la gamme, puis effectuez des tests de vitesse et d'exécution continue.
Méthode de vérification : utilisez des feuilles épaisses standard et des outils de mesure d'épaisseur indépendants pour couvrir la plage de mesure et ajoutez des conditions d'inclinaison, d'oscillation, de trous, de bords et de dérive de température.
Limites applicables et base existante
Les résultats des tôles ne peuvent pas être directement extrapolés aux films transparents, aux mousses ou aux matériaux multicouches ; l'épaisseur effective ne doit pas continuer à être affichée lorsque les références clés sont manquantes.
La base de positionnement et de mesure existante ne constitue pas un système bilatéral complet de mesure d'épaisseur, et l'étalonnage et la synchronisation des carottes doivent encore être complétés.
Algorithme correspondant :Développement d’algorithmes de déplacement de point laser et de mesure d’épaisseur bilatérale。
Promotion et acceptation des projets d'entreprise
- confirmation de la portéeClarifier les objets, postes de travail, entrées, sorties, unités, interfaces et conditions anormales qui doivent être couverts.
- Vérification d'échantillonUtilisez des échantillons représentatifs normaux et anormaux pour établir une référence et enregistrer ce qui fonctionne, ce qui échoue et les lacunes dans les données.
- Débogage conjoint du développementComplétez l'algorithme, l'étalonnage, l'interface et l'adaptation de l'équipement selon la portée approuvée, et conservez la version, les paramètres et l'état anormal.
- Acceptation de l'articleUtilisez des échantillons indépendants et des retests de valeurs de référence pour confirmer respectivement les erreurs, la détection, le tempo, la stabilité et les livrables.
Soumettre des échantillons et les conditions de l'équipement pour clarifier la portée du développement et de la livraison
Plan d'application pour la fluctuation de l'épaisseur de la bande et l'analyse des positions hors tolérance
Veuillez décrire l'objet de la tâche, l'image ou la vidéo originale, les indicateurs cibles, la plate-forme de l'appareil, l'interface et un exemple de situation.
Téléphone : 13910119357xuzhiyang0928@gmail.com